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苏黎世联邦理工制造纳米级OLED像素 — A black and white photo of a diamond pattern

苏黎世联邦理工制造纳米级OLED像素CEFR B1

2025年12月8日

改编自 ETH Zurich, Futurity CC BY 4.0

照片: Shaawn, Unsplash

等级 B1 – 中级
4 分钟
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苏黎世联邦理工学院(ETH Zurich)的化学工程团队在纳米尺度上制造出有机发光二极管(OLED)像素。该团队由施志仁教授领导,博士生Jiwoo Oh报告最小像素直径在约100纳米量级,这比当前技术小很多。博士后Tommaso Marcato与团队一起开发了制造工艺,单一步骤中像素密度大幅提高。

研究者还演示了由2800个纳米OLED构成的ETH标志。该标志与一个人类细胞相近大小,每个像素约200纳米,而团队报告的最小像素可达到100纳米。像素间距在可见光波长的一半以下时,光波会相互作用,团队利用这种相互作用将发射光引导到特定角度。

研究人员使用非常薄的氮化硅薄膜制作模板,这些薄膜可集成到用于芯片生产的标准光刻工艺中。该项工作由施教授获得的资助支持,团队正在优化方法,目标是实现对每个纳米像素的独立控制,未来可能用于近眼显示、显微照明和微小传感器。

难词

  • 有机发光二极管能发光的薄型显示器件
    有机发光二极管(OLED)
  • 纳米极小的长度单位,约十亿分之一米
    纳米尺度上, 纳米OLED, 100纳米量级, 约200纳米
  • 像素构成显示图像的最小亮点单元
    最小像素直径
  • 像素密度单位面积内像素的数量
  • 光刻工艺制造芯片时用来刻图的工艺
    标准光刻工艺
  • 氮化硅薄膜常用的薄型无机材料膜
  • 像素间距相邻两个像素之间的距离
  • 相互作用两个事物互相影响的过程

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